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高周波デバイス対応 低誘電フッ素系層間絶縁膜『AL-X』

AL-Xは主に高周波・パワー半導体用材料として、極めて優れた低誘電特性を持った感光性樹脂で、200℃以下の低温硬化可能です。

ポリイミド、エポキシ樹脂より低誘電特性に優れた樹脂です。 【特長】 ●電気的特性 低誘電率・低誘電損失の材料です。  ●機械的特性 高い伸度と低いヤング率を有しております。 ●感光特性  溶媒現像ネガ型の材料で高い解像度を有しております。 ●低温硬化  200℃以下の低温でも硬化可能です。 ●吸水率   他の低誘電性樹脂よりも低い吸水率を有しております。    

基本情報

【製品特性】 形状:液体 色 :黄~橙色透明 匂い:芳香 【法令】 消防法:第4類第二石油類 非水溶性液体 労働安全衛生法:危険物・引火性物質 【保管条件】 冷凍保管 -20度~-15度 【荷姿】 1kgポリ瓶 【製造・発売元】 AGCセイミケミカル株式会社

価格情報

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納期

用途/実績例

【用途】  WLP、IPDや3Dパッケージの再配線層用絶縁樹脂  各種デバイスのパッシベーション膜、バッファ膜  MEMSデバイスなどのウェハボンディング材  高周波・パワー半導体用材料

詳細情報

ラインアップ(2)

型番 概要
AL-X2010 高粘度タイプ
AL-X2003 低粘度タイプ

高周波デバイス対応 低誘電フッ素系層間絶縁膜『AL-X』

製品カタログ

取り扱い会社

独自の技術開発と製造プロセスにより、安全、安心、快適で環境に優しい世の中を創造する化学品事業。 苛性ソーダや塩ビモノマーをはじめとするクロールアルカリ事業と、ポリオールを中心とするウレタン事業。そして、世界トップレベルのフッ素化学事業を柱としています。

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