マスク最適化に量子アニーリング・イジングマシンを活用
従来手法との比較における長所と短所や、技術的な課題、今後の発展の方向性を確認!
半導体のプロセス技術の一つであるマスク最適化の研究に取り組まれている 会津大学・東京工業大学・キオクシア株式会社様にお話を伺いました。 以前より会津大学、東京工業大学、キオクシアの三者で数理最適化技術を 用いたマスク最適化のアルゴリズムを開発し論文発表などを行っていましたが、 今回は量子アニーリング・イジングマシン(以下、「イジングマシン」)を 活用し、その共同研究の結果を論文として発表されました。 イジングマシンを活用するに至った経緯や、今回の研究の意義などについて お話を伺いました。 ※記事の詳細内容は、関連リンクより閲覧いただけます。 詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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