【半導体製造装置向け】ガラス精密加工 NC加工・開孔加工
露光マスクの精密加工、お任せください。ガラス加工の“難しい”を可能に。
半導体製造装置の露光マスクにおいては、微細なパターン形成と高い寸法精度が求められます。特に、露光マスクに使用されるガラス基板には、欠陥の少なさ、平坦性、そして正確な位置への開孔加工が不可欠です。これらの要素が満たされない場合、半導体の歩留まり低下や性能に影響を及ぼす可能性があります。当社は、長年の経験と高度なNC加工技術により、お客様の要求仕様を満たすガラス加工を実現します。 【活用シーン】 ・露光マスク基板の精密な開孔加工 ・指定形状への面取り加工 ・長方形、円、正方形など多様な形状への対応 【導入の効果】 ・高精度な露光マスクの製造に貢献 ・歩留まり向上と品質安定化をサポート ・複雑な形状加工への対応力
基本情報
【特長】 ・NC機を駆使した精密複合加工に対応 ・長方形、円、正方形など多様な形状の開孔加工が可能 ・指定形状への面取り加工を併せて実施 ・1個から量産まで柔軟に対応可能 ・大型合成石英、サファイヤガラスの加工実績あり 【当社の強み】 ・1985年創立以来40年以上のガラス精密加工・研磨の実績 ・他社で困難とされる加工やコストに見合わない加工にも対応 ・「笑顔とねばり」をモットーにお客様の要望に応える姿勢 ・新社長のもと、技術力向上のためのトライ＆エラーを継続 ・試作品の無料製作を実施
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当社は1985年創立以来『ありとあらゆるガラス加工』を基軸に掲げ、 40年以上お客様から御愛護頂いております。 他社では不可能、またはコストに見合わない加工も、当社にお任せください！ どのような加工でも『笑顔とねばり』をモットーに、お客様の要望に応えるべく 社名のように日々『猛進』して参ります。 新社長は40歳代、技術力向上のために、各社でたらいまわしにされた案件を引き受け、トライ＆エラーを繰り返し、日々、一段ずつ技術を積み上げております。 また、当社では新たに試作品の無料製作も実施しております。 量産試作でお悩みの際はご相談ください。 お待ちしています！