プラズマ溶射処理
気孔率が低く密着力が高い溶射膜を得ることが可能
より気孔率が低く、密着力が高い溶射膜を得ることが可能な、プラズマ溶射処理
基本情報
【特徴】 ○粒子飛行速度が速いため（350m/sec) ○気孔率：4％以下（サンプル皮膜断面で測定） ○接着力：40MPa以上（アルミ母材/エポキシ接着剤） ○Al2O3（アルミナ溶射）・Y2O3（イットリア溶射）の2種類をご用意 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
価格情報
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納期
用途／実績例
詳細は、お問い合わせ下さい。
気孔率が低く密着力が高い溶射膜を得ることが可能
より気孔率が低く、密着力が高い溶射膜を得ることが可能な、プラズマ溶射処理
【特徴】 ○粒子飛行速度が速いため（350m/sec) ○気孔率：4％以下（サンプル皮膜断面で測定） ○接着力：40MPa以上（アルミ母材/エポキシ接着剤） ○Al2O3（アルミナ溶射）・Y2O3（イットリア溶射）の2種類をご用意 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
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