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HFEベーパー乾燥装置

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HFEベーパー乾燥装置

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安全性を十分考慮した製品

ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。 ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

基本情報

【特長】 ■ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。 ■各基板の全面に、均一にHFE ベーパーが凝縮する為、全ての基板において均一な乾燥処理を行うことができます。 ■石英槽ですので金属溶質も有りません。

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用途／実績例

半導体製造工程、電子材料製造工程、等

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多岐にわたる分野で、創造という挑戦を続けるお客様と、歩みを重ねて− 施設機器事業、機械装置事業を両輪とするダルトングループの力は、創造活動に情熱を抱く お客様のパートナーとしての役割を担うことで、はじめて発揮されます。 際立つ個性と知を携えたグループ各社と共に、歴史と信頼を築いてきたサプライヤーと共に、 そして、価値創造の主人公であるお客様と共に。 −創造の、共創へ。− 私たちダルトングループは、おのおのの知と技術を結集し、 お客様のあらゆる創造活動と融合することで、革新的な価値を共に創造し、 豊かな社会と輝ける未来に貢献します。

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