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HFEベーパー乾燥装置

安全性を十分考慮した製品

ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。 ※詳しくはPDF(カタログ)をダウンロードいただくか、お気軽にお問い合わせください

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基本情報

【特長】 ■ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。 ■各基板の全面に、均一にHFE ベーパーが凝縮する為、全ての基板において均一な乾燥処理を行うことができます。 ■石英槽ですので金属溶質も有りません。

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納期

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用途/実績例

半導体製造工程、電子材料製造工程、等

取り扱い会社

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