HFEベーパー乾燥装置
安全性を十分考慮した製品
基本情報
【特長】 ■ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。 ■各基板の全面に、均一にHFE ベーパーが凝縮する為、全ての基板において均一な乾燥処理を行うことができます。 ■石英槽ですので金属溶質も有りません。
価格帯
納期
用途/実績例
半導体製造工程、電子材料製造工程、等
安全性を十分考慮した製品
【特長】 ■ベーパー発生槽底面の研磨技術と特殊表面加工をしたプレートヒーターを使用することにより、ベーパー発生槽内のHFEを均一に沸騰させ、槽内に均一なベーパーを発生させることができます。 ■各基板の全面に、均一にHFE ベーパーが凝縮する為、全ての基板において均一な乾燥処理を行うことができます。 ■石英槽ですので金属溶質も有りません。
半導体製造工程、電子材料製造工程、等