株式会社ダルトン 公式サイト

ボンベ真空加熱炉

半導体製造工程などで使用する高純度ガスボンベ内に付着している不純物を除去する装置です。

ボンベの内壁に付着している不純物を加熱真空引きにより取り除きます ボンベサイズ、同時処理本数はカスタマイズにて対応します 自動機、手動機など予算に合わせご提案します 【特長】 ■ボンベの均一な加熱が可能です(Max200℃)。炉内温度±約1% 。 ■ボンベ加熱と同時にボンベの安全弁への冷却も可能です(熱による安全弁の破損防止の為) ※詳しくはPDF(カタログ)をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください

製品詳細はこちら(当社ホームページ)

基本情報

※詳しくはPDF(カタログ)をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください。

価格帯

納期

用途/実績例

高純度ガス製造工程、半導体ガス製造工程、等

取り扱い会社

ダルトングループの活動は、 多様な分野との融合を通じて 社会や人々の生活を支えています。 身近な暮らしのあちこちに、 社会を形づくるさまざまな場所に、 数年後、数十年後、さらにその先の未来のために―― ダルトングループの製品・サービスが支える 価値創造のフィールドは実に多彩です。 高い技術力と想像力を携えて― 私たちは、常にお客様のニーズの一歩先を見つめ、 豊かな社会づくりに貢献しています。

おすすめ製品