【製造実績】立体物対応実験用プラズマCVD装置
表面処理工程に導入！真空チャンバーの材質は、ステンレス製で到達真空度が1Pa以下の製品の事例
自動車・バイク部品製造業へ「立体物対応実験用プラズマCVD装置」を 製造した実績についてご紹介いたします。 立体物にDLC、アモルファスSiC等が成膜可能な基材加熱機構付き (最高設定温度：500℃)の製品を導入。 また、PC操作(シーケンサー制御)で、全自動、データロギングが できます。ご用命の際は、当社へお気軽にお問い合わせください。 【実績概要】 ■立体物に成膜可能な実験用プラズマCVD装置 ■対応可能膜種：DLC、アモルファスSiC等 ■基材加熱機構付き(最高設定温度：500℃) ■PC操作(シーケンサー制御)で、全自動、データロギング ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【製品仕様(抜粋)】 ■真空ポンプ：ロータリーポンプ＋メカニカルブースターポンプ ■排気圧コントロール：手動(オプションで自動可) ■成膜対象物：最大φ100mm×500mm ■高周波出力：最大1kW ■整合方式：自動整合方式 ■ランプ加熱：最高設定温度500℃ ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
取り扱い会社
当社では、CVD、スパッタ、蒸着などの成膜装置から大気圧プラズマ、 加熱/乾燥炉など真空/大気圧問わず実験装置から生産装置まで、お客様の 要望に合わせて装置を設計、製造致します。 また、CVD法の一種であるプラズマCVD法によりDLC膜を生成します。 a-SiCやSiOxといったSi系膜の作成も可能です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
