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研究・開発用機器/超高真空機器

信頼性の高いシステムを構築!メンテナンスや改造も当社にお任せください

当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を 主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの 各種研究用装置もご用意しております。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 <真空成膜装置> ■装置の拡張性を考慮 ■経済性なシステムとなるよう設計 ■簡易・小型のものから1mを超えるターゲットサイズも対応 ■実験から生産まで幅広い分野で実績あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連リンク - http://www.e-yashima.com/index.html

基本情報

【ラインアップ(抜粋)】 <真空成膜装置>  ■RFマグネトロンスパッタ装置  ■対向ターゲットスパッタ装置  ■電子ビーム蒸着装置 <各種研究用装置>  ■高真空高温炉装置  ■基板加熱装置  ■電流導入端子各種 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯

納期

用途/実績例

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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取り扱い会社

次世代技術において薄膜作製の必要性はますます増えてまいります。薄膜作製においては低温下で、かつ緻密な、またそうであって生産性も高い、そんな技術が求められています。弊社は従来の対向ターゲット式スパッタ方式ではなしえなかったアーク放電対策を可能にし、上記の条件を満たすユニフォームプラズマスパッタ装置を製作販売しております。