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  【課題解決例】テフロン（PTFE）表面への超親水化処理 コンバーティングテクノロジーセミナー2019のご案内 日本表面真空学会 SP部会 第159回定例研究会(3/15)のご案内 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会　第159回定例研究会　テーマ「大気圧プラズマの最前線」 第6回次世代基盤技術産業展　TECH Biz EXPO　2016に出展中！

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  企業情報

  イー・スクエア ダウンストリーム型は累計販売台数1400台以上・種々の表面機能性付与をダメージレス・パーティクルレス・幅広ワークに均一処理 販売実績で培った装置信頼性と種々のノウハウを用い、その優位性をプロセスアプリケーションと共に他市場（蓄電池市場・粒子その他）へもドライプロセスを用いた新たなアプローチを展開しております。 弊社ダウンストリーム型高密度プラズマソース（電極）処理部分はワークと隔離されいるため、ワークへの電気的・物理的ダメージの発生が無く、プラズマ生成時の紫外光がもたらす影響もなく、大気圧プラズマ装置で唯一のクリーン処理（パーティクルレス）が可能です。 添加ガスの変更により、選択的に分子機能性付与をプロセス技術として各種表面材質に応じた界面制御が可能で、ダイレクト接着や異種材接着、より強固な塗膜との密着性に有効な手段です。処理幅（プラズマ幅は100mm～3000mmに均一な処理が可能。 炭素繊維束や繊維束状の対応も可能で、束内部まで均一処理が可能。また、粒子への同処理も対応しております。 　ダウンストリーム型の卓上式の実験装置の製造、スポット型装置（250万円～）、立ち合い実験サンプルワークも実施しております。