13.5nm 極端紫外 (EUV) 用平面ミラーの短納期供給を開始しました。
エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社
2018 年11 月 ( 東京都文京区) – 米国Edmund Optics(R) (EO) の日本法人、 エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社は、極端紫外 (EUV) 用平面ミラーの発売を開始しました。 このミラーは、精密研磨された多層膜ミラーで、設計波長と入射角 (AOI) で反射率が最大となるようデザインされています。 EUV 放射のビームステアリングや高調波分離用に適してます。 【特長】 ■13.5nm で最大反射率 ■CDI および材料科学の研究に好適 ※詳しくは下記詳細ページをご覧いただくか、お気軽にお問合せください。
