エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 公式サイト

極端紫外 (EUV) 用平面ミラー

波長13.5nmで最大限の反射率を達成!極端紫外 (EUV) のビームステアリングや高調波分離用に最適なミラー。

極端紫外 (EUV) 用平面ミラーは、超精密研磨された単結晶シリコン基板に反射コーティングを蒸着した多層膜のブラッグ反射ミラー。表面粗さは3Å未満です。入射角45°のミラーは、s偏光のビームステアリング用に、対する入射角5°のミラーは、非偏光との使用に有益です。コヒーレント回折イメージング (CDI) 、EUV分光、ナノマシニングなどの用途にお使いいただけます。 【特長】 ■13.5nmで最大限の反射率を達成 ■極端紫外のビームステアリングや高調波分離用にデザイン ■入射角5°と45°をラインナップ

関連リンク - https://www.edmundoptics.jp/f/extreme-ultraviolet-…

基本情報

標準規格品として全品1個から販売。完全在庫販売のため、短納期で供給致します。 ●さらに詳しい説明、標準規格品の製品ラインナップとその仕様、販売価格に関しては、エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社の公式サイト内の対象製品ページをご覧ください (上記リンクの製品ホームページよりお入りいただけます)。

価格帯

納期

用途/実績例

Edmund Optics (EO)は、光学部品、画像、フォトニクス技術のリーディングカンパニーです。R&D、エレクトロニクス、半導体、製薬、バイオメディカルなど、世界中のマーケットをサポートしています。EOの製品は、DNA分析から網膜による個人認証、また高速FA用途に至るまで、幅広いアプリケーションに用いられます。EO最新の製造ケイパビリティとグローバル物流ネットワークの融合により、光学部品を在庫販売するNo.1サプライヤーとして、市場で認知されています。日本のお客様は、現地法人のエドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社が対応いたします。

2024年度版『オプティクス&フォトニクスカタログ』

総合カタログ

2024年度版『レーザーオプティクスカタログ』

製品カタログ

2020年度版『対応力ガイド』

技術資料・事例集

取り扱い会社

エドモンド・オプティクス(Edmund Optics)は、1942年の創業以来、精密光学部品や同サブアセンブリ品を世界中の産業に向けて製造・供給するフォトニクスとイメージング企業です。エドモンドオプティクスでは幅広い光学部品やイメージングシステム、オプトメカニカル機器などの設計や製造に加え、在庫販売品および特注品の大量生産でOEMアプリケーションもサポートしています。

おすすめ製品