EUV光源
高輝度・低デブリを実現したLPP-EUV光源
ISTEQ社のTEUSシリーズは、高輝度・低デブリを実現したレーザー生成プラズマ(laser produced plasma)によるEUV光源です。 従来の液滴ターゲットと異なりプラズマ発生時に飛散するデブリの光学系への付着を防ぐことができます。
基本情報
・飛散デブリの光学系への付着を低減 ・ターゲットの高速回転により安定したターゲット面を実現 ・最大 44 mW (13.5nm±1%)の出力を実現 (TEUS S-400)
価格帯
納期
型番・ブランド名
ISTEQ・TEUSシリーズ
用途/実績例
・EUVマスクブランクスの研究、検査 ・EUV用光学部品の研究、検査 ・マスクおよび表面検査 ・材料科学 ・ウェハ検査