CZウェーハ 成膜加工
2インチから12インチウェーハへの成膜が可能です。
株式会社エナテックのCZウェーハ 成膜加工は、膜種により2インチから450ｍｍウェーハへの成膜が可能です。 酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG、BSG、LP-CVD、PE-CVD 窒化膜系： HCD-SiN、DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN 、LP-CVD、PE-CVD 金属膜系： TaN、Ta、Cu、Al、AlN、Al-Si、Al-Si-Cu、Ni、W、W-Si-Cu その他 Poly-Si、a-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系）、グラフェン膜、グラファイト ＊SiO2,SiN,SiONなど膜種により1枚からでも対応が可能です。 ＊Suputter成膜にてTi,Cu,Cr,Niなど対応可能です。 ＊レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ～12インチまで対応可能です。 ＊テストパターン付ウェーハ（6インチから12インチ）も仕様により一貫で対応致します。 ＊レチクルご支給による、露光/エッチングも承ります。（8インチと12インチ） 詳しくはお問い合わせ下さい。
基本情報
【特徴】 ○膜種により2インチから４５０ｍｍウェーハへの成膜が可能 ○テストパターン付ウェーハ（6インチから12インチ）に対応 ○レチクルご支給による、露光/エッチングも対応（8インチと12インチ） ○レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ～12インチまで対応可能 ○バックグラインダー：直径5インチ～12インチ ○ダイシング：直径5インチ～12インチ 【12インチ 対応可能膜種】 ○酸化膜系：熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG ○窒化膜系：DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN ○金属膜系：TaN、Ta、Cu、Al、Al-Si、Al-SiーCu、Ni、W、W-Si-Cu ○その他：Poｌｙ-Si、A-Si、SiC、Low-ｋ（SiOC系、有機化学系） ●詳しくはお問い合わせ下さい。
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取り扱い会社
エナテックはシリコンウェーハ関連製品を多数取り扱っており、お客様の御要望に迅速、的確に対応いたします。 設立後40年有余年、Si分野を中心に半導体産業の一角を支えてまいりました。国内外のシリコンメーカー・加工メーカーの協力により、日本のみならず海外市場へも安定的にシリコン材料を供給しています。 半導体及び太陽電池製造メーカー等への評価用テストウェーハ・成膜ウェーハ販売(及び再生加工等の受託加工）を主とし、ダミーウェーハの分野においても、国内にSiの選別工程の倉庫を2箇所有し、お客様のニーズにお答えすべく様々な種類のウェーハをご紹介させて頂いております。 CZシリコンウェーハ以外にもFZシリコンウェーハ、SOIウェーハ、拡散ウェーハ、ＳｉＧｅ，ＧａＡｓ、InP、サファイア、ゲルマニウム、SiCウェーハ、半導体用中古装置、フェライトコア、酸化鉄、高純度化学物質等も取り扱っています。
