株式会社エナテック 東京本社 公式サイト

CZシリコンを使用したSOI以外にも、基板・デバイス層とも高抵抗FZシリコンを使用したSOIウェーハも対応可能です。 直径：3インチ～12インチ SOI層：2－200um程度（抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） SiO2(酸化膜）層：0.5－2um程度(0.1-10umも対応可能） 支持基板：300-725um程度（直径によりますが抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能） ＊仕様によりますが新規対応は10枚程度から対応可能です。 ＊ウェーハを御支給いただきSOIウェーハへ加工することも可能です。 エナテックはシリコンウェーハ関連品を多数取り扱っており、お客様の御要望に迅速、的確に対応いたします。半導体及び太陽電池製造メーカー等への評価用テストウェーハ・成膜ウェーハ販売(及び再生加工等の受託加工）を主とし、ダミーウェーハの分野においても、国内にSiの選別工程の倉庫を2箇所有し、お客様のニーズにお答えすべく様々な種類のウェーハをご紹介させて頂いております。 詳しくはお問い合わせ下さい。

【SOI特徴】 ○3インチ～12インチ対応可能 ○少量対応可能 ○CZ、FZ対応可能 【エナテック取扱製品】 ○CZウェーハ →国内外1"～450mm(プライム/テスト・モニター/ダミーウェハ）のウェーハ取扱 ○FZウェーハ(高抵抗シリコンウェーハ） →2"～8"(プライム/テスト）の紹介が可能 ○各種加工 →成膜加工・シリコン各種加工品（特殊加工・特殊厚み）も対応可能 ○その他 →シリコンウェーハの他、化合物半導体、ウェーハ用ケースなど ○LEDライト →御社のご使用環境に応じて提案可能 ●詳しくはお問い合わせ下さい。

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