高純度イットリア溶射材
耐プラズマエロ―ジョン性に優れた溶射皮膜が得られる高純度イットリア粉末です。
造粒焼結粉法で作製された純度99.99%以上の高純度イットリア溶射材料です。 イットリア溶射材は主に半導体、FPD製造装置に使用されるため高い純度が要求されます。 これに応えるためフジミでは厳密な品質管理のもと高純度イットリア溶射材を製造しています。 イットリア粉末を用いた溶射皮膜（コーティング）はアルミナ粉末を用いた溶射皮膜よりも優れた耐プラズマエロ―ジョン性を有しています。 【用途例】 高純度イットリアではその化学的安定性、耐プラズマエロ―ジョン特性を活かし、半導体、FPD(OLED、LCD)製造装置などに使用されています。 アプリケーション例 ・プラズマエッチング装置 ・CVD装置 ・静電チャック ・焼成トレイ など 【メッセージ】 フジミではお客様のご要望に応じた純度、粒度に調整した粉末の試作も可能です。 セラミックス溶射材料に関してご質問やご要望等ございましたらお気軽にご連絡ください。 ※製品の詳細はカタログをご覧ください
基本情報
※詳しくはカタログをご覧ください
価格帯
納期
用途／実績例
【用途例】 高純度イットリアではその化学的安定性、耐プラズマエロ―ジョン特性を活かし、 半導体、FPD(OLED、LCD)製造装置などに使用されています。 アプリケーション例 ・プラズマエッチング装置 ・CVD装置 ・静電チャック ・焼成トレイ など
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取り扱い会社
フジミインコーポレーテッドは、1950年の創業以来、 分級技術などを活かした精密人造研磨材メーカーのパイオニアとして独自の歩みを続けてきました。 蓄積されたノウハウと研究開発力から生まれた製品の数々は､光学レンズ用研磨材から出発し、 シリコンウェハーに代表される半導体基板の鏡面研磨、半導体チップの多層配線に必要なCMP（化学的機械的平坦化）、 コンピュータ用ハードディスクの研磨など高精度が求められる先端産業に欠かせぬものとなっています。 最近では、LED・ディスプレイ・パワーエレクトロニクス用部品の表面加工分野や パウダー技術を活かした応用分野への研磨・研削材の開発にも積極的に取り組んでおります。 また、鉄鋼、航空機および半導体等さまざまな業界の溶射用途向けに溶射材をご使用頂いております。
