【研究開発向け】低メタル、低パーティクル化ソリューション
半導体製造における金属・パーティクル汚染対策に貢献します。
研究開発分野では、実験の再現性が極めて重要であり、不純物の混入は実験結果に大きな影響を与えます。半導体製造プロセスにおいては、金属やパーティクルの混入がデバイスの性能劣化や歩留まり低下につながるため、高度な清浄度が求められます。当社の低メタル、低パーティクル化ソリューションは、これらの課題に対応し、研究開発における信頼性の向上に貢献します。 【活用シーン】 ・半導体材料の研究開発 ・半導体製造プロセスの評価 ・金属汚染、パーティクル汚染が問題となる研究 【導入の効果】 ・実験データの信頼性向上 ・研究開発の効率化 ・高品質な半導体製造への貢献
基本情報
【特長】 ・金属濃度をppbレベルで管理 ・粒径100nm程度までのパーティクル数を管理可能 ・吸着剤とフィルターによる金属・パーティクル低減 ・最大処理量15L（低メタル化）、18L（低パーティクル化） ・ICP-MS、液中パーティクルカウンターを自社保有 【当社の強み】 福井キヤノンマテリアル株式会社は、化学技術を通して、お客様の日常を快適にすることを目指し、優れた技術で人と人、人と化学のより良い関係を築いてまいります。「共生」の理念のもとに、地球環境と企業活動の調和を図りながら、顧客・社員ならびに地域社会の期待に応えられるように努め、お客様のニーズに応える製品を革新的な技術や発想から創造し、永続的な発展を目指します。
価格帯
納期
用途／実績例
低メタル化実績：金属濃度2000ppbの液を50ppbまで低減 低パーティクル化実績：PGMEA (4L) の循環ろ過において、粒径70nm以上のパーティクルが、10時間で4687個/mLから0.3個/mLまで低減
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取り扱い会社
福井キヤノンマテリアル株式会社は、化学技術を通して、お客様の日常を 快適にすることを目指し、優れた技術で人と人、人と化学のより良い関係を築いてまいります。 「共生」の理念のもとに、地球環境と企業活動の調和を図りながら、顧客・社員ならびに地域社会の期待に応えられるように努め、お客様のニーズに応える製品を革新的な技術や発想から創造し、永続的な発展を目指します。