半導体製造プロセス用 ゴア マイクロフィルトレーションメディア
高いクリーン度と安定したフィルター性能！既存の様々なフィルター製品を上回る高捕集効率と高流量を実現
『ゴア マイクロフィルトレーションメディア』は、半導体製造や マイクロエレクトロニクス製造における高純度薬液のろ過に使用される、 高性能な精密ろ過メンブレンです。 特に、ウェットエッチング、洗浄(WEC)、CMP、リソグラフィなどの工程で、 ナノパーティクルの除去によるクリーン性の向上が求められる場面に好適。 ゴアのメンブレンは、厳しい品質が要求される用途において、安定した品質、 性能、卓越したクリーン性を保証します。 【特長】 ■高いクリーン度と低発塵性 ■高耐薬品性・高耐熱性 ■疎水性・親水性の両タイプを提供 ■均一なePTFE微細構造 ■公称孔径：＜10nm〜10μm ■ロールやロット間での安定した品質 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【メリット】 ■一定の捕集効率で高流量を実現 ■ナノパーティクルやコンタミネーションの確実なろ過 ■ウェーハ欠陥の低減と歩留まり向上 ■長年にわたる信頼性と実績 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【主な用途】 ■半導体製造(ロジック、メモリなど) ■マイクロエレクトロニクス製造(FPDなど) ■高純度薬液の製造 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
