『フォトニクス事業』※紫外域から赤外域まで対応！
幅広い光学薄膜ラインアップと高精度研磨・薄膜加工技術でご要望にお応え。各種光学素材の精密研磨や1.4m超の精密ミラーまで成膜可能
HEFグループは、新たにフォトニクスという戦略的分野に参入、 絶え間なく表面処理サイエンスの技術革新に貢献していきます。 ABRISA Technologies（米国カリフォルニア州）、 KERDRY（フランス）、 FICHOU（フランス）の3社を買収し、長年グループ内で培ってきた 専門知識（PVD/PECVD薄膜、フェムト秒レーザー、表面特性評価ノウハウ）が この新たな分野でも活用できるに違いありません！ 【特長】 ■紫外域から赤外域まで対応 ■各種光学素材の精密研磨（平面度λ/20） ■お客様のニーズに合わせて好適な薄膜設計からサポート ■微小チップから1.4m超の精密ミラーまで、成膜可能 ■単品の試作でも大量生産でも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【ラインアップ】 ■反射鏡 ■反射防止膜 ■光吸収膜 ■ダイクロイックミラー ■NDフィルター ■透明導電膜 ■コールド/ ホットミラー ■ビームスプリッター ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
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取り扱い会社
1953年、フランスにてトライボロジー研究センターとして 創業したH.E.Fグループは、物質の表面処理加工に関する多くの技術を開発し、 特許を取得、ライセンスを世界中に販売してきました。 更に、近年では樹脂製筐体への表面処理プロセスも開発し、 電磁遮蔽コーティングサービスも新たにラインナップ。 世界を舞台に事業を拡げています。 H.E.Fグループは、研究開発と製造工場両方を備えているため、 お客様のニーズにあわせたカスタマイズが可能です。 H.E.Fグループは、クライアントの近くへ企業進出することを重視し、 世界中に多くの自社工場を有しています。 日本では、HEF DURFERRIT JAPAN株式会社と日本国内の3工場が連携し、 日本のお客様のご要望にお応えしております。
