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  2インチ2元スパッタリング装置『HMS2-300』

  フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能！真空及びガス置換雰囲気下での成膜に対応したスパッタリング装置！ 『HMS2-300』は、フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能な ため、高温化での成膜が可能な2インチ2元スパッタリング装置です。真空 及びガス置換雰囲気下での成膜に対応しています。2インチマグネトロン式 スパッタカソードを具備しており、最大3元まで増設可能です。オプション でL/Lチャンバ、移動式膜厚計、バイアス機構に対応しています。 【特長】 ■フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での成膜に対応 ■2インチマグネトロン式スパッタカソードを具備　※最大3元まで増設可能 ■オプションでL/Lチャンバ、移動式膜厚計、バイアス機構に対応 ■設置スペースはW535×D1000×H1800mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  極低温電気抵抗測定装置『HCER-100』

  多様なサンプルに対応！温度制御可能範囲300K～4.2Kの極低温電気抵抗測定装置！ 多様なサンプルに対応しており、最大□10mmのサンプルを計測可能。 多段式輻射シールド及び三段式真空容器構造によりサンプル交換が容易です。 スイッチ一つで室温から極低温まで、温度制御できます。（温度調整には 温度センサー及び温度コントローラ〔オプション〕が必要になります。） 【仕様（抜粋）】 ■温度可変サンプルステージ：□10mm 無酸素銅ステージ ネジ型8系統端子台 ■冷却機構（空冷式2段式クライオスタッド） 　・1段ステージ：3.0W @60K 　・2段ステージ：0.1W @4.2K ■温度制御可能範囲：300K～4.2K ■真空容器：三段式真空容器 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 【その他の仕様】 ■輻射シールド：多段式輻射シールド ■導入端子 ・デバイス計測BNC端子（50Ω）8系統 ・温度センサー導入端子 2系統 ■支持架台：アジャスタ／キャスタ付き支持架台 ■外形寸法：W540×D420×H568m 重量約50kg ■ユーティリティー：所要電力 φ1 AC100V／20A D種アース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  極低温熱電特性/比抵抗/ホール測定システム『HCT-100E』

  電気抵抗・ホール効果・熱電特性の自動同時測定が可能！広範囲の温度測定を実現しました！ 40mmギャップで0.5Tの磁界を発生させることができる軽量・コンパクトな 磁界発生装置を採用。電気抵抗・ホール効果・熱電特性の温度依存測定を 自動制御し、電気抵抗率・ホール係数・キャリア密度等演算、データを エクセルに抽出します。また各測定データはリアルタイムで数値とグラフ により表示します。 【特長】 ■極低温（4.2K）～常温（300K）の広範囲の温度測定 ■サンプルセットから4.2Kまで約2.5時間のハイパワー冷凍機 ■冷凍機・温度制御・バイポーラ電源を外部制御 ■電気抵抗・ホール効果・熱電特性の自動同時測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 【仕様（抜粋）】 ■測定温度範囲：300～4.2K ■測定基板形状：□6～10mm ■冷凍能力：室温から4.2Kまで2.5Hr以内（制御性：1K/Min） ■昇温能力：4.2Kから室温まで5Hr以内（制御性：1K/Min） ■起電力配線：冷凍機ステージ内で中継端子による配線（薄膜試料交換が容易） ■試料回転機構：0～90°（ストッパーネジ付） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】

  非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能！ 非磁性加熱源を採用している為、磁場中での高温熱処理ができ、熱処理後 に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバに移動し、ガスフローすること によりガス冷却することが可能。 また、冷却水循環装置、各種インターロック付きで、オプションとして 外径50及び60用熱処理チャンバとの交換取付ができます。 【仕様（抜粋）】 ＜熱処理チャンバ/加熱機構＞ ■外径40×長さ236mm 水冷式二重SUS316L円筒型 ■到達圧力：E-3Pa以下 ■真空排気/ガス導入：SWG1/4ベローズバルブ ■加熱方式：カーボン円筒ヒータ ■サンプルホルダー：φ15×φ12×50L 石英坩堝 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 【その仕様（抜粋）】 ＜冷却チャンバ/昇降機構＞ ■SUS304円筒型 一部水冷ジャケット付き ■到達圧力：E-3Pa以下 ■ガス導入：手動ダイアフラムバルブ ■試料交換機構：サンプル交換のために手動スライドステージ ■冷却時遮断バルブ：JISフランジ手動ゲートバルブ ■試料交換時昇降機構：台形ネジ式手動ハンドル ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  高真空対応ゲートバルブ【高真空対応のベローズ軸シール】

  高真空対応のベローズ軸シール、潤滑剤フリーのメカニズムで、コンパクトな設計！容易に取り付けられアフターメンテナンスも簡単！ 『高真空対応ゲートバルブ』は、高真空対応のベローズ軸シール、潤滑剤 フリーのメカニズムで、コンパクトな設計です。低振動、高品質で多種を ラインアップしており、リーズナブルな価格でご提供いたします。 【仕様（抜粋）】 ■リーク量 　・本体（メタルシール）：2.7×10^-11 Pa・m3/sec 　・本体（バイトンシール）：2.7×10^-10 Pa・m3/sec 　・ゲート部：1・3×10^-9 PA・m3/sec ■使用真空領域：大気圧～2.7×10^-11 Pa・m3/sec ■圧空：5Kgf/cm2 ■取付方向：自由 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 【その他仕様（抜粋）】 ■材質 　・本体：SUS304 　・ゲート：SUS304 　・ボンネット：SUS304 　・シリンダー：A6061 　・ベローズ：SUS304 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  熱天秤装置『HVTB-1100』【金属材料の重量変化測定が可能】

  アルゴンガスまたは真空雰囲気で金属材料の重量変化測定が可能な熱天秤装置！最大1100℃まで加熱が可能です！ 『HVTB-1100』は、アルゴンガスまたは真空雰囲気で金属材料の重量変化 測定が可能な熱天秤装置です。サンプル加熱装置は開閉式管状炉により 最大1100℃まで加熱（側面石英窓から加熱中に目視）が可能。 真空排気ユニットは油回転真空ポンプ及びターボ分子ポンプ構成装置とは 別置きであるため他の装置に接続して真空排気することができます。 【特長】 ■ターボ分子ポンプによる真空排気でチャンバ内はクリーン排気、高真空到達 ■加熱温度は最大1100℃、常用1000℃ ■観測室上部ポートよりサンプルるつぼ内の金属材料に直接ガス導入可能 ■真空圧力調整範囲は10～1000Pa ■天秤周囲の水冷ジャケットにより温度ドリフトしにくい構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 【その他特長】 ■タッチパネルコントロールで各種設定やバルブ開閉等容易に制御 ■省スペース、省電力 ■サンプル交換時にモータ制御の昇降機構によりサンプルの交換が容易に可能 ■サンプルるつぼ形状は最大φ50mm以下設置可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  ターボ分子ポンプ排気装置『HUVSシリーズ』 排気速度250L/秒と77L/秒から選べるターボ分子ポンプ排気装置！ポンプや真空計の組合せは自由に選択可能です！ 高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】 高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します！ 高温雰囲気熱処理炉『HFQ-1100』【1100℃まで昇温可能】 1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し！高温焼成及び溶融、ガス分析に！ 真空導入機構『トランスファーロッド／回転導入器』 超高真空対応で回転防止機構のあるトランスファーロッドや、ベローズ式回転導入器、 磁気結合型回転導入器！ 2インチ2元スパッタリング装置『HMS2-300』 フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能！真空及びガス置換雰囲気下での成膜に対応したスパッタリング装置！ 6軸ステージコントローラ『TBB-6000』 最大250分割可能なマイクロステップドライバを内蔵した6軸ステージコントローラ！多軸位置決め制御、各種実験・研究装置用途に！ 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】 クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着ができます！ 極低温電気抵抗測定装置『HCER-100』 多様なサンプルに対応！温度制御可能範囲300K～4.2Kの極低温電気抵抗測定装置！ 極低温熱電特性/比抵抗/ホール測定システム『HCT-100E』 電気抵抗・ホール効果・熱電特性の自動同時測定が可能！広範囲の温度測定を実現しました！ 磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】 非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能！ 高真空対応ゲートバルブ【高真空対応のベローズ軸シール】 高真空対応のベローズ軸シール、潤滑剤フリーのメカニズムで、コンパクトな設計！容易に取り付けられアフターメンテナンスも簡単！ 熱天秤装置『HVTB-1100』【金属材料の重量変化測定が可能】 アルゴンガスまたは真空雰囲気で金属材料の重量変化測定が可能な熱天秤装置！最大1100℃まで加熱が可能です！

• 真空コンポーネント

  真空コンポーネントの内容です。 高真空対応ゲートバルブ【高真空対応のベローズ軸シール】 高真空対応のベローズ軸シール、潤滑剤フリーのメカニズムで、コンパクトな設計！容易に取り付けられアフターメンテナンスも簡単！ 真空導入機構『トランスファーロッド／回転導入器』 超高真空対応で回転防止機構のあるトランスファーロッドや、ベローズ式回転導入器、 磁気結合型回転導入器！

• 熱処理装置

  熱処理装置の内容です。 高温雰囲気熱処理炉『HFQ-1100』【1100℃まで昇温可能】 1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し！高温焼成及び溶融、ガス分析に！ 磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』【磁場中での高温熱処理が可能】 非磁性加熱源を採用で、磁場中での高温熱処理が可能！熱処理後に雰囲気をキープしたまま冷却チャンバにに移動しガス冷却することが可能！ 熱天秤装置『HVTB-1100』【金属材料の重量変化測定が可能】 アルゴンガスまたは真空雰囲気で金属材料の重量変化測定が可能な熱天秤装置！最大1100℃まで加熱が可能です！

• 真空関連要素技術

  真空関連要素技術の内容です。 ターボ分子ポンプ排気装置『HUVSシリーズ』 排気速度250L/秒と77L/秒から選べるターボ分子ポンプ排気装置！ポンプや真空計の組合せは自由に選択可能です！

• 成膜・生成装置

  成膜・生成装置の内容です。 小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】 クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着ができます！ 2インチ2元スパッタリング装置『HMS2-300』 フラットヒータ加熱により最大600℃まで昇温可能！真空及びガス置換雰囲気下での成膜に対応したスパッタリング装置！

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  ハイブリッジ 真空機器・理化学機器から光学機器まで当社にお任せください 当社は、真空機器・理化学機器装置の設計・製作・販売及びコーディネイト などを行っております。 真空・理化学研究の前線において長年培って技術力と情報力を活かし、 お客様のサポートをいたします。

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  ターボ分子ポンプ排気装置『HUVSシリーズ』

  排気速度250L/秒と77L/秒から選べるターボ分子ポンプ排気装置！ポンプや真空計の組合せは自由に選択可能です！ 『HUVSシリーズ』は、高圧縮比（圧縮比1×10の11乗）のターボ分子ポンプ を採用したターボ分子ポンプ排気装置です。排気速度250L/秒と77L/秒の 2種類をラインナップ。フルレンジ真空計を標準で搭載。 ターボ分子ポンプ・ロータリーポンプ同時起動とロータリーポンプ単独起動 の切替機能も装備しております。 【特長】 ■ラインナップは排気速度250L/secと77L/secの2機種をご用意 ■高圧縮比（1×10の11乗のターボ分子ポンプを採用） ■ターボ分子ポンプ・ロータリーポンプ同時起動と 　ロータリーポンプ単独起動の切替機能付き ■フルレンジ真空計を標準搭載（表示はTMPコントーラ） ■任意メーカの排気ポンプを選定可能 ■停電時の逆流防止対策でフォアバルブは自動リークバルブを搭載 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。

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  高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】

  高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します！ 『HMP-100』は、排気系により＜10^-4Paでの使用が可能な高真空仕様の 加熱マイクロプローバです。加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します。TRIAXコネクタを採用することにより 1pA以下の電気測定が可能です。 【特長】 ■高真空仕様 　排気系により＜10^-4Paでの使用可能 ■加熱温度 　最大500℃対応 　10mm形状のサンプル加熱対応 ■低電流測定 　TRIAXコネクタを採用することにより1pA以下の電気測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 【仕様（抜粋）】 ＜試料評価室＞ ■真空チャンバ：φ114×h84mm　SUS304／内面#400/外面#400＋電解研磨 ■フランジ：コンフラット規格 ■ベーキング：150℃対応 ＜測定部＞ ■プローブ数：4探針プローブ/タングステン針 ■測定最少電流：1pA以下（常温） ■対向プローブ間距離：417mm ＜加熱機構部＞ ■加熱温度：最大500℃ ■加熱機構制御：DC電源外部制御式PIDコントローラ ■温度センサ：K熱電対 ＜装置本体＞ ■装置架台 　・ゴム足付きベースプレート　310×310×25hmm（ゴム足含む） 　・プローバステージ用フレーム：アルミフレーム構造 ■主排気用バルブ：ICF70手動アングルバルブ＋ICF70/NW25変換ニップル ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  高温雰囲気熱処理炉『HFQ-1100』【1100℃まで昇温可能】

  1100℃まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉！真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応し！高温焼成及び溶融、ガス分析に！ 『HFQ-1100』は、高温化での熱処理ができ、常用1100℃（最大1150℃） まで昇温可能な高温雰囲気熱処理炉です。真空及びガス置換雰囲気下での 熱処理に対応。高温焼成及び溶融、ガス分析に適してます。Oリング部は 強制空冷の為、冷却水循環装置が不要です。 【特長】 ■常用1100℃（最大1150℃）まで昇温可能 ■真空及びガス置換雰囲気下での熱処理に対応 ■Oリング部は強制空冷の為、冷却水循環装置が不要 ■所要電力：AC100V 2kW 　※オプションによりAC200V ■設置スペースはW540×D420×H568mmと省スペース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ＜大画面（96×96mm）温度調節計＞ ■最大256セグメント（8プログラム×32セグメント）設定が可能 ■専用設定ソフト（別売）で複雑な設定もPCから可能 ＜内部監察窓＞ ■内部監察窓には透明石英窓（有効径20）を採用 ■耐熱用Oリングシールにより長時間の高温加熱にも対応 ＜強制空冷機構＞ ■主に炉心管部を効率よく冷却するために空気導入ファン/排出ファンで強制的に冷却 ■背面パネルのスピードコントローラで入出力ファンのスピードを調整し、適正な冷却を実現 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  真空導入機構『トランスファーロッド／回転導入器』

  超高真空対応で回転防止機構のあるトランスファーロッドや、ベローズ式回転導入器、 磁気結合型回転導入器！ 超高真空対応（ベアリング軸受け）の「トランスファーロッド」をはじめ、 コンパクト設計で非磁性構造の「ベローズ式回転導入器」や、シャッタ機構 に適した「磁気結合型回転導入器」をご用意しております。 【ラインアップ】 ■トランスファロッド「HFTR-300/450/650」 　・超高真空対応（ベアリング軸受け） 　・回転防止機構/遠隔操作機構（オプション） ■ベローズ式回転導入器「HBR-34N」 　・コンパクト設計（外径45／全長126.5mm） 　・非磁性構造（SUS/AI） ■磁気結合型回転導入器「HMR-34N」 　・コンパクト設計（外径35/全長100mm）シャッタ機構に 　・オプションによりモータ直結可 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  6軸ステージコントローラ『TBB-6000』

  最大250分割可能なマイクロステップドライバを内蔵した6軸ステージコントローラ！多軸位置決め制御、各種実験・研究装置用途に！ 『TBB-6000』は、タッチパネルによる手動操作、インタフェースからの 遠隔操作に対応したコントローラです。位置決めに関する基本機能の他、 拡張性を有しているのでご要望よりカスタマイズ、OEM製作が可能です。 【特長】 ■5相ステッピングモーター用　■マイクロステップ ■モータードライバ内蔵　　■19インチラックに収納可能 【カスタマイズ・システムアップ対応例】 ▼軸拡張：12軸、18軸、24軸 ▼ドライバ変更：電磁ブレーキ付き、高トルク大型モータ用 ▼自動動作：外部センサによる動作開始/停止 ▼安全機構：インタロック・安全装置の組み込み ▼真空内での直動・回転ステージ　 ▼高温・低温環境の位置決め装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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  小型真空蒸着装置『HVE-100』【クリーンな成膜を実現！】

  クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着ができます！ 『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D395mmサイズで卓上型 ■お手持ちの排気系、膜厚計を取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 【その他の特長】 ■抵抗加熱蒸発源 ・Niメッキされた銅電極により酸化抑制工具不要で蒸着ボートの交換作業容易 ・ボート以外にフィラメントの装着も可能 ■基板保持機構 ・Φ70の試料ステージは上蓋をハッチ式のチャンバ上蓋に設置してある為、試料交換作業が容易 ・オプションで加熱/冷却機構の実装可能 ■蒸着シャッタ ・手動式直線型シャッター機構により任意の安定した電流値で成膜のスタート/ストップ制御が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 製品・サービス

  真空コンポーネント 熱処理装置 真空関連要素技術 分析装置 試験機 成膜・生成装置 コントローラ

• 分析装置

  分析装置の内容です。 極低温電気抵抗測定装置『HCER-100』 多様なサンプルに対応！温度制御可能範囲300K～4.2Kの極低温電気抵抗測定装置！ 極低温熱電特性/比抵抗/ホール測定システム『HCT-100E』 電気抵抗・ホール効果・熱電特性の自動同時測定が可能！広範囲の温度測定を実現しました！ 高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』【最大500℃対応】 高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します！ 熱天秤装置『HVTB-1100』【金属材料の重量変化測定が可能】 アルゴンガスまたは真空雰囲気で金属材料の重量変化測定が可能な熱天秤装置！最大1100℃まで加熱が可能です！

• 試験機

  試験機の内容です。 極低温電気抵抗測定装置『HCER-100』 多様なサンプルに対応！温度制御可能範囲300K～4.2Kの極低温電気抵抗測定装置！

• コントローラ

  当社が取り扱う「コントローラ」のご紹介です。 6軸ステージコントローラ『TBB-6000』 最大250分割可能なマイクロステップドライバを内蔵した6軸ステージコントローラ！多軸位置決め制御、各種実験・研究装置用途に！

• カタログ一覧

  ターボ分子ポンプ排気装置『HUVSシリーズ』 排気速度250L/秒と77L/秒の2機種からお選びいただけます 高真空加熱マイクロプローバ『HMP-100』 高温雰囲気熱処理炉『HFQ-1100』 真空導入機構 2インチ2元スパッタリング装置『HMS2-300』 6軸ステージコントローラ『TBB-6000』 小型真空蒸着装置『HVE-100』 極低温電気抵抗測定装置『HCER-100』 極低温熱電特性/比抵抗/ホール測定システム『HCT-100E』 磁場中熱処理炉『HV-0.5TS』 熱天秤装置『HVTB-1100』 高真空対応ゲートバルブ