E+H metrology社製 ウェハーフラットネス測定システム
主に半導体ウェハーメーカー、半導体ウェハー再生メーカー、半導体デバイスメーカー様にご採用いただいております
当社では、E+H metrology GmbH製の「ウェハーフラットネス測定システム」を 取り扱っております。 測定項目は、ウェハー厚み(Thickness)Waviness, Saw markで、 ウェハー表面粗さ,Nano topographyです。 主に半導体ウェハーメーカーや、半導体ウェハー再生メーカー、 半導体デバイスメーカー様にご採用いただいております。 【測定項目】 ■Wafer形状 ・ウェハー厚み(Thickness) Waviness, Saw mark ・ウェハー表面粗さ,Nano topography ■電気特性(ウェハー抵抗値、シート抵抗、P/N判定) ※詳しくはPDF(英語版)をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
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