EUV光源
高輝度・低デブリを実現したLPP-EUV光源
基本情報
・飛散デブリの光学系への付着を低減 ・ターゲットの高速回転により安定したターゲット面を実現 ・最大 44 mW (13.5nm±1%)の出力を実現 (TEUS S-400)
価格帯
納期
型番・ブランド名
ISTEQ・TEUSシリーズ
用途／実績例
・EUVマスクブランクスの研究、検査 ・EUV用光学部品の研究、検査 ・マスクおよび表面検査 ・材料科学 ・ウェハ検査
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この製品に関するニュース（1）
取り扱い会社
ケイエルブイは、世界各国より最先端の光学部品を発掘し、 医療・環境・分析分野をはじめとする様々な光学技術の発展をサポートしてきました。 「SOLUTION FOR OPTICAL SYSTEM DEMANDS」をテーマに掲げ、 光ソリューションビジネスの積極的な構築・展開を行っています。 高度化・多様化するお客様のニーズにどこよりも迅速かつ的確にお応えし、事業と社会の両面で貢献できる企業へ。 「光エネルギー活用を提案する専門商社」として新しい光の時代を切り拓く、当社の独自性・可能性にあふれる光学ソリューションにご期待ください。
