ダイアフラムポンプによる希ガスの回収方法

株式会社ケーエヌエフ・ジャパン KNF JAPAN

ヘリウム、ネオン、アルゴンなどの希ガス(貴ガス)は、幅広い産業や科学研究に欠かせない。航空宇宙用途から半導体産業まで、そのユニークな特性は大きな利益をもたらします。希ガス(貴ガス)の回収は天然資源の保護に役立つだけでなく、その生産による環境への影響も軽減します。これらのガスを回収して再利用することで産業界は廃棄物を最小限に抑え、新たなガス源への依存を減らすことができ、経済的なメリットだけでなく、全体的な持続可能性にも貢献します。 KNF N630.15シリーズのような二段式ダイアフラムポンプは希ガスの回収に特に有利です。厳しい条件下での効率的で信頼性の高い性能と幅広い容量、圧力、ガス組成に対応する柔軟性を兼ね備えています。さらにコンパクトな設計と固有の気密性によりガス漏れを最小限に抑えながら、小規模から大規模のアプリケーションまで対応できる高い汎用性とカスタマイズ性を備えています。これを確実にするためこれらのポンプには出荷前に追加のヘリウムリークテストが行われます。

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ポンプ選定に際し、事前のお打ち合わせは必須となります。お客様のご要求仕様に対して最適なポンプをご提案させていただきます。ポンプ選定に際しては、事前の技術打ち合わせ必須となります。まずはお気軽にご相談をいただければ幸いと存じます。多くのプロセスポンプはご要求仕様に応じたカスタマイズを行い、専用のプロジェクト型番を附番させていただきます。またプロジェクト番号を附番することでポンプの仕様詳細情報はお客様以外には非開示となり、守秘性の高い開発案件の情報保護も担保されます。
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