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技術情報「TDSによるSiN膜の昇温脱離ガス分析(C0403)」を公開

一般財団法人材料科学技術振興財団 MST

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MSTホームページにて、分析事例「TDSによるSiN膜の昇温脱離ガス分析(C0403)」を公開しました。 詳細はMSTホームページをご覧ください。 http://www.mst.or.jp/

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TDSによるSiN膜の昇温脱離ガス分析(C0403)
Si基板上SiN膜に関するTDS分析結果を示します。
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