2025年04月17日
株式会社ニッペコ 本社
半導体製造装置向け「LOGENEST LAMBDA(ロゲネストラムダ)」シリーズの製品紹介ページとなります。 ご覧いただけますと幸いです。
歩留まりに貢献、真空環境下の潤滑に特化!半導体製造装置内のコンタミを低減!
【その他の特長】 ■摩擦・摩耗の低減による部材の長寿命化 ■幅広い温度領域で使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
極高真空下(10-8Pa以下 )にてアウトガスが発生しにくいグリースです。
【用途】 極高真空下で使用されるベアリング、ポンプ、バルブ摺動部位など • 半導体製造装置 • 有機EL・ソーラーパネル製造装置 • クリーンルーム内の製造装置
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