CMPスラリー『ClasSiC/GaiNシリーズ』
砥粒技術+ケミカル配合技術により設計!ハイレートかつ面品質/面品位を両立できるCMPスラリー
当社が取り扱うCMPスラリー『ClasSiC/GaiNシリーズ』のご紹介です。 「ClasSiC」は、特にパワーデバイスに使用されるSiC基板の化学機械的 平坦化用に特別に配合されたハイレートスラリーです。 「GaiN」は、ナノアルミナ砥粒、ケミカル配合技術で研磨プロセスを 最適化するために特別に設計されており、研磨レートと平坦化性能を 大幅に向上させます。 【特長】 ■コロイダルシリカベースのCMPよりハイレートを実現 ■研磨時間の短縮が可能 ■トータルコストダウンが可能 ■砥粒技術+ケミカル配合技術により設計されたCMP ■研磨レートと平坦化性能を大幅に向上 ■スクラッチ、潜傷のない優れた表面仕上げを実現 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
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価格帯
納期
用途/実績例
【用途】 ■SiC基板/GaN基板加工時のCMP工程で使用 ■化合物半導体基板メーカー ■デバイスメーカー ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
カタログ(2)
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当グループは、自動車関連製品(ピストンリング、バルブシート、その他自動車関連製品)と舶用・その他製品の製造、販売およびこれらに附帯する事業を行っています。当社の製品は、たしかな技術に裏打ちされた品質と豊かなラインナップで、さまざまなタイプのエンジンに採用されています。自動車・船舶用の製品はもちろん、小型で複雑な形状を実現できるMIM=金属射出成型部品や、AGV等に最適なアキシャルギャップモータ並びにモータコア(圧粉磁心)・生体適合性の高いチタン合金(NiFreeT)・医療機器部品(歯科用インプラント)なども取り扱っております。