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半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」

純水1/4RC 圧縮空気1/4RC!薬液をスプレー塗布する装置

「レジスト液加温塗布装置」は、半導体関連で使用されるシリコンウェハー・ガラス基盤等のワークを、任意のスピードで回転させながら、常温または加温した薬液をスプレー塗布する装置です。 お客様のご要望に、技術ノウハウと創造力で、機能性、操作性、安全性を追及した、価値のある製品をご提案いたします。 【材質】 ○本体 :鋼板製 ○塗布部:塩ビ製 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

関連リンク - http://onec.co.jp/guide/handotai02.html

基本情報

【標準仕様】 ○ユ-ティリティ 純水1/4RC 圧縮空気1/4RC 排水1/4RC ○外形寸法    W800×H1500×D500 ○電源      AC100V 10A ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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用途/実績例

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半導体関連装置 「レジスト液加温塗布装置」

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取り扱い会社

オーエヌ総合電機株式会社がサポートするのはオール(セミ)ハンドメイドのオリジナル装置・設備です。 お客様のご要望に、技術ノウハウと創造力で、機能性、操作性、安全性を追及した、価値のある製品をご提案いたします。 噴霧熱分解装置、加熱装置分析装置、研究開発設備、原子力・半導体関連装置、計測・制御・搬送装置など、専用設備・装置ならお任せください。

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