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自動洗浄が可能な真空乳化装置/システム CLEARSTAR(R)／クリアスタア(R)の研究開発用モデル

【CLEARSTAR(R)／クリアスタア(R)の特長】 ■優れたCIP機能で装置全体の自動洗浄が可能です。 ■GMPを考慮した設計によりコンタミネーションを防止し、SIPにも対応できます。 ■槽内の均一化を図る槽外循環モードも選択可能、非常に均質な処理液が得られます。 ■真空乳化装置として単品でも、周辺機器をつけてシステムとしてもお使いいただけます。 【5型の特長】 ■5Lまでの処理が可能です ■恒温槽、真空/加圧ユニットを内蔵 ■タッチパネル操作 ■USBデータロギング装備 ■分解洗浄しやすい構造 ※詳しくはカタログダウンロードまたはお問い合わせください。

【動画有】短時間で均一な分散を可能に！シャープな粒度分布とナノメータまでの微粒子化を実現した粒子設計ミキサー(高速攪拌機)

【フィルミックス(R)の特長】 ■粒子設計が可能です。（シャープな粒度分布、ナノスケールの微粒化を実現） ■粒子表面にダメージを与えない分散が可能です。 ■2次凝集をほぐし、再凝集、性状の変化を防止します。 【56-L型の特長】 ■処理量180mL/minの連続式分散装置です。 ■バッチ単位（処理量50～90mL）の使用も可能です。 ■分解、組み立てが簡単で洗浄時間を短縮できます。 ■操作、モニターはタッチパネルで行えます。 ■周速、運転時間、処理液温度、負荷電流値、出力電力値が表示されます。 ■各種運転データはUSBメモリで保存が可能です。 ■大型機へのスケールアップも簡単、実績多数あります。 ※詳しくはカタログダウンロードまたはお問い合わせください。

テレコルタがさらに高粘度に強くなってリニューアル！高粘度攪拌における溶解、分散、混合に効果を発揮します（特許取得済）テスト受付中

■特長 ・ホモディスパーと同等の強い分散力とプロペラ形状による強い液流で高粘度処理物における分散、溶解に効果を発揮します。 ・新発想のフローパターンが、効率よく槽全体を流動させます。 ・低粘度から高粘度まで幅広い粘度で使用できます。 ・粉体の引き込みが良くダマをつぶす力も強いため、短時間で粉体を投入することが可能です。 【用途】高粘度の増粘剤溶解など（CMC 2%、カルボマー 2%） ・ホモディスパーと同等の分散力があり混合力も強いため、高粘度処理が可能です。 【用途】高粘度カーボンブラックの分散など（参考粘度～10,000cP） ※ホモディスパーの特長詳細はカタログをご覧ください。