ギ酸還元真空リフロー炉/バッチタイプ『モデル：SQ1』
当社独自の分解処理ユニットを搭載！排気中のギ酸を完全に無害化します
『モデル：SQ1』は、1チャンバーに加熱冷却機構を備えたコンパクトな バッチタイプのギ酸還元真空リフロー炉で、研究開発や少量生産に 適しています。 ギ酸還元プロセスによりフラックスや後工程でのフラックス洗浄が不要。 また、ボイド低減に有効な真空プロセスを用いることが可能。 専用タンクへのギ酸の移し変えが不要なため、お客様がご準備した瓶や タンクをそのままご使用いただけます。 【特長】 ■当社独自のガスジェネレーターを搭載、瞬間的な気化を実現 ■IRヒーターによる輻射加熱と水冷プレートによる強制水冷を 組み合わせた当社独自の加熱冷却機構を搭載 ■加熱から冷却までリフロープロセスの短縮に貢献 ■専用タンクへのギ酸の移し変えが不要 ■当社独自の分解処理ユニットを搭載、排気中のギ酸を完全に無害化 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【仕様】 ■チャンバ数：1チャンバ(加熱＆冷却) ■装置サイズ：約W1000 x D750 x H1300 約450kg ■処理スペース：W300 x D300 x H100 (12inch対応) ■加熱方式：IRヒーター 加熱温度 MAX.400℃ ■冷却方式：水冷プレート ■真空ポンプ：耐食型ドライポンプ 真空到達度 20Pa以下 ■排気処理：ギ酸分解処理ユニット搭載 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■パワーモジュール等のデバイス ■ウエハバンプ(バンプ形成) ■LED ■FCB ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
