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◉ nanoETCH Soft Etching Device
MiniLab Series Experimental Equipment
◉ 【MiniLab-026】Small Vacuum Deposition Device
◉ 【MiniLab-060】Flexible Thin Film Experimental Device
◉ 【MiniLab-080】Flexible Thin Film Experimental Device
◉ 【MiniLab-090】Flexible Thin Film Experimental Device
MiniLab-026/090 Glove Box Thin Film Experiment Device
□■□Thin Film Experiment Device (Compact Type)□■□
◉ nanoPVD-S10A Magnetron Sputtering Device
◆nanoPVD-T15A◆ High-performance organic and metal film deposition device
◆ANNEAL◆ Wafer Annealing Equipment
◉ nanoCVD-8G/8N Graphene/CNT Synthesis Device
◉ Nanofurnace "BWS-NANO" Thermal CVD Device
◇◆Film-Forming Component◆◇
Ultra-High Temperature Small Experimental Furnace Series
駆動・伝動機器
◉ Mini-BENCH Ultra High Temperature Small Tabletop Experimental Furnace Max 2200℃
軸受・直動機器
◉ TCF-C500 Ultra High Temperature Small Experimental Furnace Max 2900℃
制御・計測機器
● MiniLab-WCF Ultra-High Temperature Wafer Annealing Furnace 2200℃
産業・環境機器
◆◇◆ Small Vertical Experimental Furnace for R&D TVF-110 ◆◇◆
□■□ Substrate Heating Heater □■□
◉ BH Series substrate heating heater Max 1600℃
◉ SH series substrate heating heater Max 1100℃
◉ Hot stage "Substrate heating mechanism" Max 1800℃
◆HTE Heater◆ High Vacuum Crucible Heating Heater Max 1500℃
Temperature Sensor
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