CMPスラリー供給装置 P108
本装置はCMP装置に連続してスラリー液を供給するためのもので、2種2系統を供給する機能を有する。
基本情報
【仕様】 ○周囲温度：20℃～25℃ ○周囲湿度：55%±15 ○供給電源：200℃ ○必要給水量：3L/min ○エア消費量：110L/min
価格情報
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納期
型番・ブランド名
P108
用途／実績例
【用途】 ■Siウエハ、化合物半導体の洗浄 ■液晶ガラス基板の洗浄 ■マスクの洗浄 ■ハードディスク基板の洗浄 【実績例】 洗浄装置との組み合わせた使用
ラインアップ（1）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| P108 |
カタログ（1）
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取り扱い会社
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