連続式スラリー供給装置 P85
特許取得の調合方法で当社従来比15％以上のコストダウンを実現！燃料電池・二次電池の触媒スラリーの供給用途等に応用も可能！
『連続式スラリー供給装置 P85』は、半導体のウエハー研磨工程で加工時に塗布されるスラリーを供給する装置です。 冷凍機とヒーターの低容量化で、装置容積は当社従来比61％低減して供給流量も増大。 また、原液補給から供給可能までの所要時間を当社従来比で52分⇒22分に大幅短縮しました。 【特長】 ■当社独自の調合方式でスラリーと純水を調合＜特許取得済＞ →ポンプが不要となり、当社従来比１５％以上のコストダウンを実現 ■当社独自の加熱方式によりスラリーを加熱＜特許取得済＞ →高効率、ハイレスポンスの加熱を実現 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。
基本情報
【仕様】 〇スラリー：コロイドシリカベースPH11 〇希釈倍率：10、15、20倍 〇PH制御：PH10～11±0.2 〇温度制御：20～40±0.5℃ 〇供給流量：1.5LPM ､0.3MPa 〇スラリータンク：20L 内蔵 〇アンモニアタンク：5L 内蔵 〇外形寸法：W1250*D580*H1400 〇重量：500Kg
価格帯
納期
型番・ブランド名
連続式スラリー供給装置 P85
用途／実績例
【用途】 ■バックグラインダー ■CMP ■ポリッシュグラインダー ■研削装置 【実績例】 半導体のウエハー研磨工程で使用される装置との組み合わせで納入実績多数
ラインアップ（1）
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| P85 |
カタログ（1）
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この製品に関するニュース（1）
取り扱い会社
「きっと、未来にいるものを。」をテーマとして、半導体製造装置周辺機器の 設計、製作を主体にお客様のニーズに対応した製品開発を行っています。 私たちの保有する技術がさまざまな分野で製品化され、お客様に役立てればと 思っております。研究開発や試作などお客様のアイデアをもとに製品化することに 社員全員が情熱を持って取り組む会社です。 心より皆様方のお問い合わせをお待ちしております。
