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超純水加熱装置

加温する液体成分に影響を及ぼさない製品となっています。

本装置は、シリコンウェハー,液晶ガラス基板,ハードディスク基板、及び各種部品等の洗浄で使用される超純水をカーボンヒーターにより加温する装置です。 【特徴】 ○純水加熱容器は石英ガラスを使用 ○純水接液配管部はフッ素樹脂を使用 ○純水加熱に好適なカーボンヒーターを使用 ○加熱効率が96%以上 ○PID制御による±1℃の安定した温度制御 ○起動から使用温度まで120秒以内の昇温 ○幅広い使用流量・温度に対応 ○流量変化に対応した温度調整が可能 ※製品の詳細は、下記の「PDFダウンロード」ボタンよりご覧いただけます。 ※お問い合わせもお気軽にどうぞ。

関連リンク - https://www.technomate.co.jp/product/purewater.htm…

基本情報

【仕様】 ○加温能力:12?/分、ΔT=55.0℃(12Nの場合) ○最高設定温度:85℃ ○温度調整制度:±1℃ ○加温タンク数:2個(12Nの場合) ○ヒーター本数:12本(12Nの場合) ○電源(制御用):AC200V 5A

価格情報

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納期

型番・ブランド名

HDM-3

用途/実績例

【用途】 ■ダイサー(装置組込) ■ウエット処理装置 【実績例】 単独にて使用

ラインアップ(1)

型番 概要
HDM-3

取り扱い会社

「きっと、未来にいるものを。」をテーマとして、半導体製造装置周辺機器の 設計、製作を主体にお客様のニーズに対応した製品開発を行っています。 私たちの保有する技術がさまざまな分野で製品化され、お客様に役立てればと 思っております。研究開発や試作などお客様のアイデアをもとに製品化することに 社員全員が情熱を持って取り組む会社です。 心より皆様方のお問い合わせをお待ちしております。

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