【半導体向け】アシッドスクラバー
サンプリングガス中の酸性物質を効果的に除去
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおけるガスの清浄度が重要です。特に、サンプリングガス中の酸性物質は、装置の腐食や性能劣化を引き起こし、製品の品質に悪影響を与える可能性があります。アシッドスクラバーは、これらの問題を解決するために設計されました。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおけるガス分析 ・サンプリング装置の保護 ・酸素センサーの保護 【導入の効果】 ・サンプリングガス中の酸性物質を効果的に除去 ・装置の腐食や性能劣化を抑制 ・製品の品質向上に貢献
基本情報
【特長】 ・サンプルガスから水溶性の成分（塩酸、アンモニア等）を効果的に除去 ・サンプルガス流向とスクラバー液流向が逆になっており、パフォーマンスを改善 ・上部から水または洗浄液を連続噴霧し、汚染物質の除去を強化 ・下部のドレーンポートは洗浄液の排出を容易にし、使用とメンテナンスを簡素化 ・耐食性材料を使用:ステンレス鋼、kyner より選択 【当社の強み】 国産露点計メーカーとして、長年培ってきた技術とノウハウを活かし、お客様のニーズに合わせた最適な製品を提供します。アシッドスクラバーだけでなく、関連する計測器や装置との組み合わせによるトータルソリューションを提供し、お客様の課題解決をサポートします。
価格帯
納期
用途／実績例
● 溶剤や粒子分を含む腐食性ガスからの連続的処理
