【半導体製造向け】不活性ガス中酸素濃度コントロールシステム
4つの電磁弁を遠隔操作可能！酸素濃度監視と不活性ガス流量コントロールに最適
半導体製造業界では、製品の品質と歩留まりを向上させるために、製造プロセスにおける酸素濃度の厳密な管理が不可欠です。特に、酸化を抑制し、製品の性能劣化を防ぐためには、不活性ガス環境の維持が重要となります。不適切な酸素濃度管理は、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。当社の不活性ガス中酸素濃度コントロールシステム(ICS)は、酸素濃度を監視し、不活性ガスの投入流量を制御することで、半導体製造プロセスにおける酸化を効果的に防止します。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおける不活性ガスパージ ・爆発限界管理による安全性の向上 ・VOC排出量の削減 【導入の効果】 ・製品の品質向上と歩留まりの改善 ・製造プロセスの安全性向上 ・VOC排出量の削減による環境負荷低減
基本情報
【特長】 ・各種プロセス設備のN2パージ量適正管理 ・爆発限界管理で安全性向上 ・国内防爆認定取得済 ・2重の安全設計、2つのセンサー搭載 ・プロセス容器への不活性ガス投入流量のフィードバックコントロール機能 【当社の強み】 国産露点計メーカーとして培った技術を活かし、お客様のニーズに合わせた最適なソリューションを提供します。酸素濃度計、露点計、水分計など、様々な計測器・装置を組み合わせ、複雑な問題にも迅速に対応します。
価格帯
納期
型番・ブランド名
Oxytron2000/Mini-ICS
用途／実績例
● 爆発防止、酸欠防止、反応制御、品質維持などのため、危険区域内にある遠心分離機、 反応釜、混合槽、粉砕機、乾燥機、溶剤回収設備、貯蔵タンクなどの酸素濃度監視及び 不活性ガスの投入流量コントロール 他多岐にわたる
