【半導体製造向け】加湿装置 Model me-40DP
高精度な湿度管理で半導体製造の歩留まり向上をサポート
半導体製造業界では、製造プロセスにおける微細な湿度管理が、製品の品質と歩留まりを大きく左右します。特に、ウェーハ製造やクリーンルーム環境においては、湿度のわずかな変動が、製品の不良や性能低下につながる可能性があります。Model me-40DPは、高精度な湿度制御を実現し、半導体製造プロセスにおける安定した環境を提供します。これにより、歩留まりの向上に貢献します。 【活用シーン】 ・ウェーハ製造工程 ・クリーンルーム環境 ・研究開発部門 【導入の効果】 ・歩留まりの向上 ・製品品質の安定化 ・製造コストの削減
基本情報
【特長】 ・ペルチェ素子による冷却システム ・高応答性 ・高精度・高安定性 ・小型軽量化 【当社の強み】 国産露点計メーカーとして、長年培ってきた水分管理に関するノウハウを活かし、お客様のニーズに合わせた最適なソリューションを提供します。加湿装置だけでなく、露点計やその他の計測器との組み合わせによる、トータルでの環境構築も可能です。
価格情報
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納期
型番・ブランド名
Model me-40DP
用途／実績例
● 燃料電池の評価試験 ● 湿度計校正 相対湿度 5~100％ ● 分析機器内の湿度調整用、校正用 ● 炉内水分管理 焼成炉、メッキ炉他 ● 反応ガス中の水分添加 ● 光合成試験 植物の蛍光特性 ● 触媒開発用途 試験槽に水分添加 ● 研究開発用途 試験槽に水分添加
