【半導体クリーンルーム向け】霜点発生器 G3
NIST実証済みの2温度2圧力システムで湿度を精密に制御
半導体製造におけるクリーンルーム環境では、湿度管理が製品の品質と歩留まりを左右する重要な要素です。微細な水分量変化が、製品の性能劣化や製造プロセスの異常を引き起こす可能性があります。特に、露点管理は、結露によるパーティクルの発生を防ぎ、製品の信頼性を確保するために不可欠です。G3霜点発生器は、-120 °C FP ～ +10 °C DPの広い範囲で、超高精度な露点発生を実現し、クリーンルーム内の湿度管理を強力にサポートします。 【活用シーン】 ・半導体製造工場のクリーンルーム ・研究開発施設 ・品質管理部門 【導入の効果】 ・高精度な湿度管理による製品品質の向上 ・製造歩留まりの改善 ・安定した製造プロセスの実現
基本情報
【特長】 ・極低露点-120 °C FP ～ +10 °C DP ・ハイブリッド2温度2圧力法による、超高精度の露点発生 ・デュアル・フロンフリー・クライオクーラー(極低温冷却器) ・1～3個の独立した流量制御ガス出力ライン ・真空断熱/絶縁飽和槽とコントロールバルブ 【当社の強み】 国産露点計メーカーとして、長年培ってきた水分計測技術と、オーダーメイド対応による柔軟なソリューション提供で、お客様の課題解決をサポートします。露点計TK-100シリーズをはじめ、様々な計測器・装置を組み合わせ、複雑な問題にも迅速に対応します。
価格情報
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納期
型番・ブランド名
G3
用途／実績例
校正機関 等
