【半導体向け】バブルスクラバー
連続酸除去で、サンプリングシステムの性能を向上
半導体製造業界では、高品質な製品を安定的に生産するために、製造プロセスにおけるガスの清浄化が不可欠です。特に、微量な汚染物質が製品の性能に大きな影響を与えるため、サンプリングガス中の酸性ガスや粒子状物質を効果的に除去することが求められます。Neutronics社のバブルスクラバーは、これらの汚染物質を除去し、サンプリングシステムの信頼性を高めるように設計されています。 【活用シーン】 ・半導体製造プロセスにおけるガス分析 ・クリーンルーム環境におけるガスモニタリング ・サンプリングシステムの保護 【導入の効果】 ・酸性ガスや粒子状物質によるセンサーやコンポーネントの損傷を防止 ・メンテナンス頻度の削減 ・システムの信頼性向上
基本情報
【特長】 ・サンプルガス中の酸性ガスと粒子状物質を効果的に除去 ・スクラビング媒体による汚染物質の吸収 ・カラム式設計によるスクラビング媒体の連続供給不要 ・アクセスしやすい充填口によるメンテナンスコストの抑制 ・ステンレススチールまたはカイナー/テフロンから選択可能な耐腐食性構造材料 【当社の強み】 国産露点計TK-100シリーズの製造・販売を中心に、様々な計測器・装置を取り扱っており、お客様のニーズに合わせた最適な製品を提供します。校正・点検・修理サービスも行っており、導入後のサポートも万全です。
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