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加工事例『シリコン』

半導体製造におけるウェーハと同材質であるシリコンの加工事例を紹介します。

シリコンの加工事例を紹介します。 半導体製造において、ウェーハと同材質であるシリコンは、コンタミネーション、パーティクルを避ける用途で、製品を加工しています。 柱状晶(多結晶)の素材は、大型サイズもあります。 また、柱状晶の方が単一の結晶でないため、カケ、チッピング、ワレの加工性は良好です。 【加工事例】 ■製品名:ドーム型電極 ■使用素材:シリコン ■加工方法:球状加工 ■サイズ:φ60 ■イメージサンプル品はマシニングセンタで凸凹加工 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。

関連リンク - http://www.top-seiko.co.jp/jirei-cat/silicon/

基本情報

【加工可能なサイズ】 ■板寸法:500×800×50 mm(柱状晶) ■丸棒寸法:φ100×400 mm(柱状晶) ■溝:幅 0.05~ mm ■凹凸:~100 mm ■穴径:φ0.03~ mm ■穴深さ:20D(~φ1.5)、400(φ1.5~)mm ■穴数:~5,000 ■ネジ:M3~(ヘリサート挿入要) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。

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用途/実績例

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせください。

取り扱い会社

「鉄に加工できて、他の素材に加工できないことはない」をモットーに、2001年の創業以来、技術の蓄積をしてきました。 アルミナ、ジルコニア、タングステン、モリブデン等々「この素材にこんな加工ができないか」とお困りでしたら、是非お声がけ下さい。 絶縁性、耐熱性、耐摩耗性など、必要なご用途に合わせた最適な材質をご提案し、短納期・高品質にてご提供させていただきます。 ホットプレス機を導入し、接着剤を使用しない直接的な接合に取り組んでいます。 半導体製造装置を筆頭に、航空機、医療、精密機器、分析機器、自動車や原子力といった多くの産業において、弊社の精密加工部品が使用されています。

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