光応用加熱装置『フラッシュランプアニール装置』
大面積で一括照射・高照度での照射が可能！複数パルスの照射もできる加熱装置
『フラッシュランプアニール装置』は、1秒以内で瞬時に対象物を アニールする光応用加熱装置です。 UVから可視・赤外域までの連続波長を有したクセノンフラッシュランプの 光により、0.1～60msecの範囲を任意に可変可能。 焼成、剥離、表面改質など幅広いスペクトルを利用した様々な用途に お使いいただけます。 【特長】 ■スペクトル ・紫外から可視・赤外領域まで幅広い波長特性 ■高出力・大面積一括処理(タクト短縮、高均一度) ・ワークサイズに応じて、フラッシュランプを複数本配置し、 大面積で一括照射、高照度(Max70J/cm2)での照射が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【その他の特長】 ■深さコントロール(パルス制御) ・ランプに流れる電流を半導体スイッチでON/OFF制御することで、 ランプ電流、パルス幅の調整が出来、加熱深度をコントロール(0.1～60msec) ・複数パルスの照射も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【用途】 ■焼成 ■剥離 ■表面改質 ■酸化膜形成 ■結晶化 ■接着 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
