【高周波洗浄ユニット：用途例】半導体製造工程
出力が低い所でも安定した性能を維持！繊細な部品洗浄にも適しています。
半導体製造工程において「高周波洗浄ユニット」を ご提案いたします。 スパッター装置や、CVD装置などをお使いのお客様で、冶具の再生を メーカー等に依頼されていらっしゃる方も多いと思います。 特定のお客様では、超音波で部品にダメージを与えてしまうケースがあります。 当社の超音波は、出力が低い所でも安定した性能を維持できるので そのような、繊細な部品洗浄にも適しています。 希少金属や、金などをより多く回収し、同時に冶具のクリーン度、 金属イオンの完全除去など様々な周波数の超音波を駆使して 洗浄品質向上をお手伝いします。 【特長】 ■洗浄槽が大型になるケースが多い洗浄槽内で、均一なパワーの分布を実現 ■幅広い出力調整幅で洗浄力を最適化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
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取り扱い会社
ユーシー・テクノロジー社（米国）は1966年より半導体製造装置の進歩と共に、超音波でその時代をリードしてまいりました。 1990年にユーシー・ジャパン株式会社設立後、日本国内の主要半導体製造装置メーカー各社と共に 開発を進め数多くのワイヤーボンダー／フリップチップボンダー装置へのOEM供給をメインに信頼と実績を築いてまいりました。 2005年以降は姉妹企業であるリンコ社（スイス）、アーテック社（スイス）、クレスト社（米国）、 マーチンウォルタ社（ドイツ）、KLN社（ドイツ）等、弊社グループ企業との連携を図りながら、 様々な超音波アプリケーションの取扱いも開始いたしました。 環境・エネルギー問題に直面した地球全体の改善への取組をサポートすべく、 我々は効率化・軽量化・微細化・強度確保・気密性・再現性等の要求事項をクリアーさせる事を最優先事項と位置づけ、 お客様との実験検証を大切にし、未来を創造するモノづくりに必要な超音波ソリューションを限りなく提案していきます。 是非、ご相談ください。
