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半導体向け装置「CMP処理後スクラブ洗浄装置」

ご要望に対応した装置を設計製作!CMP処理後のスクラブ洗浄装置

ヴァリアスでは半導体向け「CMP処理後スクラブ洗浄装置」を ご要望に応じて設計製作いたします。 また、ご依頼に柔軟性をもって装置製作以外にも対応します。 お気軽にご相談ください。 【特徴】 ○パルスJET洗浄 ○リンス洗浄 ○高速スピン乾燥 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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基本情報

【取扱製品】 ○自動洗浄装置、レジスト剥離装置 ○自動洗浄装置 ○クローズド純水洗浄装置 ○CMP処理後スクラブ洗浄装置 ○手動洗浄装置 ○JET-RINCER-DRYER ○IPA-VAPOR-DRYER ○ワンサイクル式洗浄機・水切り乾燥機 ○ワープ洗浄装置 ○ブラシ洗浄機 ○エッチングドラフト ○メッキ装置 ○スピンドライヤー、スピン洗浄機 ○卓上型エアーブロー ○薬液供給装置 ○純水装置(ろ過装置) ○高速プレス下死点制御コントローラー ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

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納期

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用途/実績例

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取り扱い会社

多彩な実績・経験からお客様のニーズにあった最適なシステムをご提案いたします。洗浄機、薬液供給装置、自動搬送機を問わず何かお困りのことがありましたら一度ご連絡下さい。 お客様のご依頼に柔軟性をもって装置製作以外にも対応いたします。 ヴァリアス・ホームページ http://www.various-x.jp/ (ブラウザへコピー&ペーストしてください)

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