波長285nm親撥水処理パターン描画装置
プリンテッドエレクトロニクス用途のインクジェット印刷に必須の親水領域・撥水領域パターン描画装置です。波長285nm
基本情報
1)有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。 ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します ・285nm高出力UVLED使用の安価光学系 ・パターン幅200μm ・描画域 100×100mm ・DXFファイル使用可
価格帯
100万円 ~ 500万円
納期
応相談
用途/実績例
1)有機物の分子結合エネルギーを切断できるフォトンエネルギー。 ポリイミド膜等の表面に親水領域を描画します。 2) インクジェット・インクをパターン上に導き、バルジ等を改善します
カタログ(2)
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株式会社ワイ・ドライブは、プリンテッドエレクトロニクス技術を開発・追究する会社です。インクジェット工法、マイクロ・ナノ成型工法、印刷工法による電子デバイスの製作、微細2D・3D印刷配線/構造体製作(数μm以下スケールでの構造体製作)のほか、各種電子回路基板の開発も受託しております。各種画像処理ソフト(カメラ系・3Dセンサー系)、FPGA設計、電子制御系ソフトウェア開発、組込電子機器開発 等も受託しています。