誘導加熱用電源と加熱装置、プラズマ用高周波電源、ＲＦパワーアンプなど、高周波の工業利用及び理化学研究用の高周波電源とその高周波利用装置を製造販売しています。 誘導加熱電源は、出力1.2kWから500Kwまで幅広く取り揃えており、特に他に類のない小型化と広い周波数範囲をカバーするため、今まで誘導加熱の適用が困難であったアプリケーションにも応用されています。 プラズマ用電源とＲＦアンプについては、米国の系列会社にてエンジニアリングと製造を行い、販売のほか応用機器の設計製造を行なっています。 半導体装置用プラズマ高周波電源と広帯域増幅器の３０年以上の経験を踏まえ、的確なエンジニアリング業務でお客様の理想を実現します。 機器選定のための加熱テストも初回無償で承っております。