『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発
ポストキュア(二次加硫)工程が不要に。電気接点障害やブリードを大幅低減
基本情報
【新規シリコーン製品 ラインアップ(抜粋)】 メチルハイドロジェンポリシロキサン:CHUSIL60MH(揮発分0.1%以下) 両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL200VT(揮発分0.1%以下) 両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL100VTS(揮発分0.1%以下、低分子シロキサン100ppm以下) ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格帯
納期
用途/実績例
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