『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発
ポストキュア（二次加硫）工程が不要に。電気接点障害やブリードを大幅低減
当社はこのたび、長年培ってきた精製技術を活用し、 低分子シロキサンを含まないシリコーンの製造に成功しました。 シリコーンゴム成形後の、低分子シロキサン除去工程（ポストキュア工程）が不要。 生産工程の短縮やオイルブリードの低減に貢献します。 【特長】 ■付加架橋タイプはSi-H、Si-Viの両方の低分子シロキサンを予め除去 ■ポストキュア工程を省略でき、生産工程の短縮に貢献 ■密閉性が高く、高温になるECU内での低分子シロキサンガスの発生を抑制 ■シリコーンゴム使用中のオイルブリードも抑制 ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
基本情報
【新規シリコーン製品 ラインアップ（抜粋）】 両末端ビニルジメチルシリコーン：CHUSIL200VT（揮発分0.1％以下） 両末端ビニルジメチルシリコーン：CHUSIL100VTS（揮発分0.1%以下、低分子シロキサン100ppm以下） ※詳しくはPDF資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格帯
納期
用途／実績例
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
