薄膜蒸留（ワイプレン）の基礎知識 設備スペック
蒸発を短時間で行う為、原料や不純物の分解がなく、必要な製品が取得可能！ 高沸点物の蒸留や反応性の高い物質に最適！
『薄膜蒸留』は、高真空による低温蒸留で、様々な性質の化学物質に対応が可能です。 薄膜蒸留設備を用いて高真空下で低温加熱する事で熱に不安定な物質の蒸留も可能。 高真空化で高温加熱する事で高沸点（常圧沸点500℃）の物質も蒸留が可能になります。 ラボ試験から実機製造まで様々な設備と装置を用いて対応いたします。 また、高反応性・熱分解性物質の精製、シリコーン業界におすすめです。 【特長】 ■熱に不安定な物質 ■融点物質（MAX80℃までの化合物） ■高沸点物質（常圧500℃） ■粘度が高い物質（常温10,000mPa・s） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【仕様】 ■低金属分は一桁ppm ■純分測定はppm単位まで ■低水分 ■その他、需要家様のご希望スペックをお聞きして仕様決定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯
納期
用途／実績例
【仕様】 ■低金属分は一桁ppm ■純分測定はppm単位まで ■低水分 ■その他、需要家様のご希望スペックをお聞きして仕様決定 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
