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【書籍】マテリアルズインフォマティクスによる高分子材料の開発(No.2365)【試読できます】
ー新材料候補の高速探索、所望の特性を満たす組成・構造の予測、配合条件の最適化ー ★分子構造、画像、スペクトル、文献・特許情報など社内外のあらゆるデータをMIで使える形に整えるポイントを解説! --------------------- ■目次 第1章 マテリアルズ・インフォマティクスによる材料開発、構造設計と応用 第2章 材料開発へ向けた分子設計と反応解析、化合物の記述子化 第3章 機械学習、シミュレーションを活用した配合条件の最適化、組成比の予測、反応因子の抽出 第4章 実験、測定データの収集、解析、処理と材料開発、プロセス設計への活用 第5章 材料開発における自律実験、自動化技術の導入と運用 --------------------- ●発刊:2026年7月31日 ●体裁:A4判 425頁 ●執筆者:41名 ●ISBN:978-4-86798-162-7 ---------------------
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【書籍】バイオフィルムの除去、防止と形成阻害剤の開発(No.2363)【試読できます】
◎「ぬめり」と「耐性化」を打破する、現場のためのバイオフィルム完全撤去マニュアル! --------------------- ■目次 第1章 バイオフィルム形成メカニズム 第2章 バイオフィルムの各種評価法 第3章 抗バイオフィルム製品開発のための評価法 第4章 抗バイオフィルム剤の種類と特徴 第5章 細菌の付着防止から見る抗バイオフィルム剤の開発 第6章 バイオフィルムの形成阻害メカニズムと抗バイオフィルム剤の開発 第7章 口腔内、感染由来のバイオフィルムの制御、除去、防止対策 第8章 生活環境で発生するバイオフィルムの具体的な制御、除去、防止対策 第9章 食品で発生するバイオフィルムの具体的な制御、除去、防止対策 第10章 工場、機械、配管で発生するバイオフイルムの具体的な制御、除去、防止対策 --------------------- ●発刊:2026年7月31日 ●体裁:A4判 384頁 ●執筆者:65名 ●ISBN:978-4-86798-161-0 ---------------------
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【書籍】半導体パッケージの低CTE化と反り対策(No.2367)【試読できます】
~チップレット、2.5D/3D高密度実装に応える~ ◎熱膨張係数や弾性率の異なる材料を一体化するポイントとは? ◎高熱密度環境、複合パッケージに求められる熱応力対策を一挙掲載 --------------------- ■目次 第1章 半導体パッケージの微細化、集積化に向けた要素技術の開発動向 第2章 熱伝導性向上、低熱膨張性付与を可能にするフィラー材料の開発動向 第3章 負熱膨張材料の開発動向 第4章 フィラーの表面処理、分散、充填技術 第5章 低熱膨張基板材、ガラス基板の開発動向 第6章 半導体封止材の開発と低応力化 第7章 接合材料の開発 第8章 低CTE 樹脂材料の開発動向 第9章 半導体パッケージ材料における評価とシミュレーション技術 --------------------- ●発刊:2026年7月31日 ●体裁:A4判 395頁 ●執筆者:33名 ●ISBN:978-4-86798-163-4 ---------------------
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【書籍】化工計算によるプロセス設計とスケールアップ(No.2359)【試読できます】
-必要な物性値/重要な関係式/モデル化/AIの活用- ★ 経験や勘に頼らない! 計算結果に基づいた早くて正確な『装置設計』『運転条件設定』に向けて! ★ 計算に必要な物性値、重要な関係式、モデル化から、最新のAI活用例まで網羅! --------------------- ■目次 第1章 化学工学の基本 第2章 物性の推算 第3章 撹拌・混合、反応プロセス、装置設計に向けた推算、シミュレーション 第4章 分離プロセス、装置設計に向けた推算、シミュレーション 第5章 乾燥プロセス、装置設計に向けた推算、シミュレーション 第6章 粉粒体プロセス、装置設計に向けた推算、シミュレーション --------------------- ●発刊:2026年6月30日 ●体裁:A4判 504頁 ●執筆者:35名 ●ISBN:978-4-86798-157-3 ---------------------
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【書籍】半導体プラズマプロセス技術の制御と計測・モニタリング(No.2357)【試読できます】
-可視化・異常検知・高精度プロセス最適化- ◎成膜・エッチングプロセスの最適化を実現するには? ◎プラズマを可視化し、電子・イオンの制御につなげる技術を詳解! ◎放電・反応性プラズマの高精度プロセス技術を徹底解説! --------------------- ■目次 第1章 プラズマの基礎、発生装置の概要と生成・制御技術 第2章 真空環境の設計技術 第3章 プラズマの計測技術、プロセス評価・解析技術 第4章 プラズマプロセスにおけるモニタリング、予知保全技術 第5章 プラズマを利用した成膜技術とプロセスの低温化、分析技術 第6章 EUVリソグラフィ用の光源と装置開発 第7章 プラズマエッチング・アッシングのプロセス技術 第8章 プラズマを利用した半導体の表面処理技術と洗浄技術 --------------------- ●発刊:2026年6月30日 ●体裁:A4判 395頁 ●執筆者:41名 ●ISBN:978-4-86798-156-6 ---------------------
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