薬液補充ポンプ CFD 『半導体プロセスの強酸・強アルカリ補充』

薬液補充ポンプ CFD 『半導体プロセスの強酸・強アルカリ補充』

1shot当り1mL、分注性能が大幅に向上。ウエハー洗浄液の濃度管理に最適です。

イワキ薬液補充ポンプ CFDは、高精度な薬液注入が可能で、半導体製造プロセスの強酸・強アルカリ補充に最適です。【特長】 ●優れた精度で薬液を正確に注入、ウエハー洗浄液の濃度管理に最適です。 ●強酸、強アルカリ、過酸化水素水などの薬液に対応する高い耐食性。 ●圧縮空気を動力とする安全なエアー駆動ベローズポンプです。 ●サイホン防止機構により、薬液の流出を防止。 ●幅広い吐出量範囲をカバー。 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。

公式サイト - 薬液補充ポンプ CFD詳細

基本情報

【概略仕様】 ●最大吐出量：1mL/shot（CFD-1T-B）・8mL/shot（CFD-8T-B） ●使用液温度範囲：20〜60℃ ●供給エアー圧力範囲：０.15～0.3 MPa ●最大エアー消費量：2.5NL/min（CFD-1T-B）・5.4NL/min（CFD-8T-B） ●最大ストローク数：30spm ●主要材質：PTFE、PFA、PCTFE ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問合せください。

価格帯

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型番・ブランド名

イワキ薬液補充ポンプ CFD

用途／実績例

●半導体分野：洗浄プロセス、他

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取り扱い会社

株式会社イワキ

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電話番号・住所

弊社は豊富な品揃えであらゆる要求スペックに対応する、ケミカルポンプの総合メーカーです。超微量注入、大流量移送、純水、高粘度液、スラリー混入液・・・ケミカルポンプの用途は多方面にわたり、要求される内容もそれぞれ異なります。たとえば強酸・強アルカリを厳しい条件下で扱うケミカルプロセスでは、耐食性能はもちろん耐久性・安全性が強く求められます。半導体プロセスではコンタミネーション、パーティクルの溶出のないことが、また食品製造プロセスではサニタリー性が必須条件となります。近年ではポンプをベースとした、制御システムやユニット化のニーズも増えています。弊社はこれらに対し「多品種主義」で臨みます。永年の経験と実績に基づいた、きめ細かな品揃えでお客様の要求に的確にお応えいたします。流体の移送に関するご用命ご相談は、まず当社へご一報ください。

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