【PFAS対策にも】粉末活性炭供給機・粒状吸着装置
![粉末活性炭自動供給機 [常設型]](https://image.mono.ipros.com/public/premium/image_category/b7c/1479859/IPROS326131428041196844.jpg?w=140&h=140){kind=small}
【活性炭の能力を最大限活用し、水処理の課題を解決】
COD・n-Hex・TOCなどの有機物対策から、 PFAS（有機フッ素化合物）対策まで。 多様化する水処理課題に応える、活性炭供給・吸着システムをご提案します。 ________________________________________ ACF（50%wet粉末活性炭供給装置） 小〜中規模浄水場で多数採用。 活性炭を安定・連続供給。 近年の降水量低下に伴い、カビ臭問題が各地で顕在化。 ACFは、50%wet粉末活性炭をスラリー化し、連続注入を実現する供給装置です。 ________________________________________ RFC（粒状活性炭吸着装置） PFAS対策・有機物除去に。 新型 活性炭吸着システム。 RFCは、粒状活性炭を用いた高性能吸着装置です。 PFOS・PFOAをはじめとする有機フッ素化合物（PFAS）への対応が可能です。 PFASとは PFAS（有機フッ素化合物）は、難分解性を持つ有機化合物群です。
基本情報
ACF（50%wet粉末活性炭供給装置） 【ACFの特長】 •安定した連続供給 •スラリー化による均一注入 •小〜中規模浄水場で多数の採用実績 •カビ臭対策・有機物対策に有効 •現場条件に応じた柔軟設計 RFC（粒状活性炭吸着装置） 【RFCの特長】 •PFAS対策に対応 •ファインバブル洗浄機構を採用 •活性炭交換ライフを延命化 •粒状活性炭による高効率吸着 •維持管理コストの低減 •逆洗水槽不要のコンパクト設計 •付帯設備を削減し省スペース化
価格帯
納期
用途／実績例
ACF（50%wet粉末活性炭供給装置） 【吸着対象】 •カビ臭（「ジェオスミン」、「2-メチルイソボルネオール（2-MIB）」等） •COD（化学的酸素要求量） •n-Hex（ノルマルヘキサン抽出物質） •TOC（全有機体炭素量） RFC（粒状活性炭吸着装置） 【PFOS用途例】 •半導体用反射防止剤 •レジスト材料 •金属メッキ処理剤 •泡消火薬剤 【PFOA用途例】 •フッ素樹脂（PTEE等）の加工助剤 •界面活性剤 •撥水、撥油剤の製造原料 【規制値】 PFOS・PFOA 合算値 50ng/L以下 【吸着対象】 COD（化学的酸素要求量） n-Hex（ノルマルヘキサン抽出物質） TOC（全有機体炭素量） PFOS / PFOA などPFAS成分 色度成分（有機系） 臭気成分
