スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」
機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備！RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用
弊社グループ会社の洗浄装置はフォトマスク／レチクル製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力いたします。 【特徴】 ・ハイクリーン化と歩留向上に貢献 ・検出限界レベルまで有機物・金属イオン・異物を除去可能 ・ワーク上の不純堆積物を高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツール ・RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用 ・機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備 ・洗浄面への洗浄液高速拡散 ・ウォーターマークレス乾燥 【用途】 ・フォトマスク/レチクル/マスクブランクスメーカーでの製品洗浄 ・半導体デバイスメーカーの露光前レチクル洗浄 ・半導体デバイスメーカー内製マスクライン(マスクショップ)での製品洗浄 【納入実績】 ・国内外マスクブランクス/フォトマスク/レチクルメーカー ・国内外デバイスメーカー ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
基本情報
LSIの高性能化に伴い、フォトマスク／レチクルは、より高精細 ・ 高精度である事を要求されています。当社の洗浄装置はこれら製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力致します。 機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備、ワーク回転の遠心力とオゾン水、アンモニア添加水素水吐出により、検出限界レベルまで有機物・金属イオン・異物を除去可能なユニットです。各洗浄液を切り換えて洗浄することにより、ワーク上の不純堆積物を高速除去するとともに廃液管理も安全な環境対応ツールです。 RCA洗浄液に変わる洗浄液・洗浄方法の採用 SPM → オゾン水 ・完全室温洗浄の実現(高温プロセス不要) ・マスク上の薬液残留量減少 ・廃液処理の安全化(ISO14000対策) SC-1 → アンモニア添加水素水 ・MoSiハーフトーンマスクのエッチング防止 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
価格帯
納期
型番・ブランド名
WULFシリーズ
用途／実績例
【用途】 ・フォトマスク/レチクル/マスクブランクスメーカーでの製品洗浄 ・半導体デバイスメーカーの露光前レチクル洗浄 ・半導体デバイスメーカー内製マスクライン(マスクショップ)での製品洗浄 【納入実績】 ・国内外マスクブランクス/フォトマスク/レチクルメーカー ・国内外デバイスメーカー
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取り扱い会社
1930年（昭和5年）に輸出入の専門商社として発足し2020年で創立90周年を迎え、渡辺商行グループの更なる発展に全力で取り組んでいるところでございます。 1960年代半ばより、半導体業界に対しケイ素(Si)関連製品を販売する方針のもと、石英加工品、シリコーンゴム成形品、洗浄装置などの自社製品を製造販売を開始いたしました。 モノづくり商社として、質の高い製品・サービスを提供することにより、IT社会の成長とともに成長してまいりました。 今後とも株式会社渡辺商行を中核とするグループ各社の社員が、毎日活き活きと働き、職場全体が学びの組織となる会社づくりを目指します。 そして、社会の真のニーズに応える強い意志を持ってこれからも日々あらゆる事業に邁進していく所存です。 今後とも益々のご支援とご愛顧を賜りますようお願い申し上げます。
