【自動滴定装置 技術資料】酸性銅めっき浴中の塩化物イオン
半導体ウェハー上へのCu成膜に使われる酸性銅鍍金浴の塩化イオン濃度を電位差自動滴定装置を使って品質管理を自動化
酸性銅めっき浴は、主に半導体ウェハ―状へのCu成膜に用いられます。 塩化物が少量含まれていると、成膜速度が上がり、アノード分極が抑えられます。 しかし、濃度が高くなりすぎるとCu成膜の品質が低下するため、好ましくありません。したがって、効率よく高品質のCu成膜を行うには、塩化物イオン濃度のモニタリングがきわめて重要です。 メッキ浴 鍍金浴
基本情報
メトロームの自動滴定装置を使用して酸性銅めっき浴の塩化物イオン濃度を測定することで、品質管理を自動化できます。
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スイス・ヘリザウに本社を置くメトローム社は、70年以上にわたりイオン分析を中心とした分析機器の開発・製造を行うリーディングカンパニーです。イオンクロマトグラフィー、電位差滴定、カールフィッシャー水分測定、ラマン分光分析など、高精度な測定技術を核とした幅広い製品群を、世界140か国以上のお客様へお届けしています。日本法人であるメトロームジャパン株式会社は、スイス本社で培われた高い技術力と品質を背景に装置の3年保証を実現するとともに、環境、食品、医薬品、半導体、化学など幅広い分野のお客様に対し、販売からアプリケーション相談、導入後のメンテナンス・サービスまで、メーカーならではのきめ細やかなサポート体制で対応しています。